光学薄膜+光罩缺陷检查机
Pellicle + Mask Inspection System


总览

为何需要Pellicle+Mask Inspection System

主要是因为光学薄膜(Pellicle)在半导体制造和其他光学应用中扮演关键的角色,
其质量直接影响到最终产品的性能和可靠性。


各层别检测

此机种针对光罩及Pellicle的各个层别进行详细检测,
确保每一层的质量皆符合标准,如下图ABCD皆有检测。





Pellicle 检测面示意图
Pellicle 检查机外观预览